原子层沉积

ALD
原子层沉积是一种精确的薄膜沉积技术，通过交替曝露于前驱体气体，实现单原子层的沉积。质量流量计用以确保前驱体气体在原子层沉积工艺中的精确控制和稳定输送，GT1000/2000产品可使得每个沉积周期中的气体流量高度一致，从而实现薄膜厚度和组成的严格控制，提高工艺重复性和产品质量。